掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片的批量生产，是下游生产流程衔接的关键部分，是芯片精度和质量的决定因素之一。 我司专业定做掩膜版 掩模板 掩膜板 掩模版 mask 金属掩模板 不锈钢掩膜版，主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用，也适合于工
非标零部件
2024年08月15日
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